Полупроводнички кварцен прстен

Во Semixlab, ние сме специјализирани за развој и производство на кварцни компоненти со висока чистота, дизајнирани за средини за обработка на полупроводници од следната генерација. Меѓу нив, прстенот за кварц со висока чистота на Semixlab игра клучна улога во повеќе чекори на производство на плочки од предниот дел, каде што димензионалната прецизност, хемиската чистота и термичката стабилност директно влијаат на перформансите на процесот и приносот на уредот.

Во системите за хемиско таложење со пареа (CVD) - вклучувајќи LPCVD, PECVD и високотемпературни SiC или Si епитакси реактори - кварцниот прстен служи како структурен и функционален интерфејс помеѓу сусцепторот и реакционата комора. Неговата примарна улога е да ги изолира реактивните текови на гас, да ги минимизира паразитските таложења на ѕидовите на комората и да го стабилизира термичкиот профил околу плочката. Исклучителната термичка униформност на прецизно полираниот кварц на Semixlab обезбедува конзистентна дебелина на филмот и супериорен квалитет на површината низ плочката. Оптичката транспарентност на материјалот и инфрацрвената рефлективност исто така можат да се прилагодат за да се подобри ефикасноста на греењето и да се намалат температурните градиенти во зоната на таложење.

Во процесите на плазматско јорење (суво јорење), кварцниот прстен делува како заштитна бариера против плазматска ерозија и јонско бомбардирање, заштитувајќи ги металните површини на комората од контаминација и генерирање честички. Нашиот синтетички кварц со висока густина, произведен според строго контролирани спецификации за нечистотии (<1 ppm метална контаминација), го одржува димензионалниот интегритет дури и при продолжено изложување на агресивна плазма базирана на флуор и хлор. Ова значително го продолжува животниот век на компонентите на комората и помага во одржувањето на стабилна дистрибуција на плазмата, критичен параметар за униформност на јорењето и контрола на CD (критична димензија).

Во рамките на оксидациските и дифузиските печки, кварцните прстени на Semixlab функционираат како прецизно усогласување и изолациски елементи кои ги поддржуваат пловните плочи и ја дефинираат патеката на протокот на гасот од процесот. Нивниот ултра низок коефициент на термичка експанзија го минимизира стресот за време на повторено термичко циклусирање на температури над 1000 °C. Резултатот е подобрена повторување на процесот, намалена дефектност и минимизиран ризик од контаминација на честички во чекорите на оксидација на висока температура или дифузија на допант.

За процесите на епитаксијален раст, особено во SiC епитаксија, кварцниот прстен придонесува за униформност на температурата и хемиска изолација. Позициониран околу графитниот или SiC-обложената сусцепторка, тој делува како рефлективна и ограничувачка компонента, обликувајќи го граничниот слој на гасот и подобрувајќи ја униформноста на допантот и дебелината низ површината на плочката. Комбинацијата од висока термичка отпорност, хемиска инертност и оптичка стабилност им овозможува на кварцните прстени Semixlab да одржуваат перформанси дури и на температури кои се приближуваат до 1600 °C во атмосфери богати со водород.

Преку децении експертиза во науката за материјали и прецизно производство, кварцните прстени со висока чистота на Semixlab станаа доверлив избор за глобалните производители на полупроводници и производителите на оригинална опрема (OEM) на опрема кои бараат подобрена сигурност, чистота и стабилност на процесот. Секоја компонента е изработена според SEMI стандардите, потврдена преку ICP-MS елементарна анализа и обработена во ISO-сертифицирани чисти производствени средини. Овие атрибути осигуруваат дека кварцните прстени на Semixlab испорачуваат конзистентни перформанси, го минимизираат застојот и им помагаат на клиентите да постигнат построга контрола на процесот и поголем принос на уредот во напредното производство на полупроводници.