Полупроводничка кварцна плочка

Полупроводничката кварцна плочка Semixlab е прецизно полирана, ултра-високо чистота, стопена силикатна подлога дизајнирана за тешки средини за обработка на полупроводници.

Широко се применува како фиктивна плочка, носечка плочка, оптичка подлога и база за фотомаска во термичка оксидација, CVD/LPCVD, PECVD и литографски системи.

Изработена од 99.99% SiO₂ со висока чистота, оваа кварцна плоча нуди исклучителна термичка стабилност, хемиска инертност и оптичка транспарентност, обезбедувајќи стабилно и без контаминација работење во напредните производствени линии на полупроводници.

Ⅰ. Својства на материјалот и површината

● Материјал: Синтетички или природен стопен силициум диоксид (SiO₂ ≥ 99.99%).

● Опции за дијаметар: 2", 4", 6", 8", 12" (достапни се големини по нарачка).

● Завршна обработка на површината: Двострано полирана, рамност ≤ 5 μm, површинска рапавост ≤ 0.5 nm.

● Термичка отпорност: Стабилна континуирана работа до 1200°C.

● Коефициент на термичка експанзија: 5.5 × 10⁻⁷ /°C.

● Оптички пренос: >90% од 190 nm до 2,600 nm.

Секоја плочка се подложува на строга површинска инспекција, димензионална верификација и анализа на чистотата за да се обезбеди целосна усогласеност со барањата за полупроводнички квалитет.

Ⅱ. Клучни функции во полупроводничките процеси

1. Носач на процес во CVD и LPCVD системи

Кварцните плочки се користат како фиктивни или дистанционни плочки за стабилизирање на протокот на гас и униформноста на температурата за време на таложење на SiO₂, Si₃N₄ и полисилициумски тенок филм. Нивната димензионална прецизност обезбедува униформен раст на филмот и минимално генерирање на честички во текот на циклусите на таложење.

2. Примени во оксидациски и дифузиски печки

Во процесите на оксидација на висока температура и дифузија на допанти, кварцните плочки дејствуваат како термички штитови или монитори на процесот, одржувајќи рамномерна распределба на температурата и спречувајќи контаминација на производствените плочки.

3. Употреба на оптика и литографија

Благодарение на високата оптичка пропустливост и униформноста на индексот на прекршување, кварцната плочка е идеална за изработка на фотомаски, подлоги за експозиција на DUV и алатки за оптичка калибрација. Гарантира постојан пропуст на светлина за i-line, KrF и ArF литографски системи.

4. Плазма и средини за гравирање

Кај системите за суво јорење и плазма CVD, кварцните плочки се користат како коморни штитови или плазма прозорци, нудејќи одлична диелектрична цврстина и хемиска издржливост наспроти халогени гасови (CF₄, SF₆, Cl₂).

5. Метрологија и калибрација на опрема

Кварцните плочки служат како референтни плочки за калибрација на дебелината на филмот, температурата и рамноста. Нивната ултра мазна површина без дефекти овозможува точни и повторувачки резултати од мерењето, обезбедувајќи стабилност на контролата на процесот.

Типични апликации

● Лажна плочка за CVD, LPCVD и PECVD системи

● Носач на процес или термички штит во оксидациски и дифузиони печки

● Подлога за фотомаска за UV/DUV литографија

● Референтна плочка за калибрација на опрема и метрологија

● Прозорец за плазма комора и заштитник за процес на гравирање

Полупроводничката кварцна плочка Semixlab е високо-перформансна подлога дизајнирана за најсложените полупроводнички процеси. Нејзината термичка стабилност, оптичка прецизност и хемиска чистота ја прават неопходна во апликациите за депозиција, оксидација, литографија и метрологија. Со сеопфатна прилагодување и инженерска поддршка, Semixlab испорачува решенија што ја максимизираат конзистентноста на процесот, сигурноста на приносот и оперативната ефикасност. Искрено се надеваме дека ќе станеме ваш долгорочен партнер во Кина.